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J-GLOBAL ID：200903069403985096

合成シリカガラスの製造方法

Inventor： 石川 真二 ,  田中 聡 ,  松井 雅彦 ,  彈塚 俊雄
Applicant, Patent owner： 住友電気工業株式会社
Agent (1)： 内田 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996235224
Publication number (International publication number)：1998081532
Application date： Sep. 05, 1996
Publication date： Mar. 31, 1998
Summary：

【要約】【課題】 特に多孔質体が大型化若しくは高嵩密度化する際に起きるガラス体の膨張とか気泡を抑制することのできる多孔質体を加熱透明ガラス化する合成シリカガラスの製造方法を提供すること。【解決手段】 加熱透明化処理を100mmHg未満の減圧不活性ガスないしは真空雰囲気で行い、透明ガラス化後、連続的に透明ガラス化時の最高温度以下の温度で100mmHg以上の圧力の不活性ガス雰囲気で熱処理を行うことを特徴とする、合成シリカガラスの製造方法。

Claim (excerpt)：

火炎加水分解法や熱酸化法で製造した、シリカガラス微粒子を堆積して得られる多孔質体を加熱透明ガラス化する、合成シリカガラスの製造方法において、加熱透明化処理を100mmHg未満の減圧不活性ガスないしは真空雰囲気で行い、透明ガラス化後、連続的に透明ガラス化時の最高温度以下の温度で100mmHg以上の圧力の不活性ガス雰囲気で熱処理を行うことを特徴とする、合成シリカガラスの製造方法。

IPC (2)：

C03B 37/014 ,  G02B 6/00 356

FI (2)：

C03B 37/014 Z ,  G02B 6/00 356 A