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J-GLOBAL ID：200903069411963450
ナフトール構造を有するイオン形光酸発生剤及びこれを用いた感光性ポリイミド組成物
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
八田 幹雄 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000398334
Publication number (International publication number)：2001192573
Application date： Dec. 27, 2000
Publication date： Jul. 17, 2001
Summary：
【要約】【課題】 既存のi線用光酸発生剤が有する低い溶解度と低い熱安定性、高い吸収度などの問題点を解決する。【解決手段】 本発明の光酸発生剤はナフトール構造を導入して熱安定性が向上しれ、ナフトールのヒドロキシ基の影響で溶解特性が優れ、かつ低い吸収度を持ちながら高い酸発生効率を有する。結局、紫外線領域で吸収度が低く酸発生効率が高いため、感光性ポリイミド前駆体組成物に10質量部以上多量添加しても全体組成物の透過度低下が大きくなく、結果的に10μm以上の高いフィルム厚さでも高解像度のパタン形成が安定的に形成できる。また、全体組成物をフィルム化して熱処理した時、熱的、電気的、機械的特性が優れて高解像度のパタン形成を必要とする半導体、回路基板などの保護膜、絶縁膜として適合する。
Claim (excerpt)：
感光性基礎樹脂;及び下記化学式(1)で表された光酸発生剤;【化1】(前記式において、R1及びR2はH、OHまたは炭素数5以下の有機基で同一または異なり、nは1〜3の整数であり、Ar1はナフタリンである)を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。
IPC (8)：
C08L101/00
, C07C309/43
, C08G 73/10
, C08K 5/42
, C08L 79/08
, G03F 7/004 503
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
C08L101/00
, C07C309/43
, C08G 73/10
, C08K 5/42
, C08L 79/08 A
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
