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J-GLOBAL ID:200903069422071283
超音波洗浄装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
羽切 正治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997325210
Publication number (International publication number):1999138116
Application date: Nov. 11, 1997
Publication date: May. 25, 1999
Summary:
【要約】【課題】 低周波の超音波振動子を用いて強力な超音波を照射しかつ使用する洗浄液を大幅に低減して省液化を図ること。【解決手段】 基板20と振動プレート3の折曲部3aの先端との間の離間距離をλ/2の整数倍の共振長の範囲内で設定して基板20を搬送手段としての複数のローラ27により矢印Xbで示す搬送方向に沿って通過させ、この基板20と振動プレート3との間に給液部材21から純水などの洗浄液23を供給すると、基板20と振動プレート3との間に表面張力の作用により液膜ができ、この液膜を介して振動プレート3からの超音波が基板20へ伝達される。従って、この液膜の作用により基板20の洗浄を行いかつ洗浄液23の使用量を抑えることができる。
Claim (excerpt):
薄板長方形状の上側ケースと、この上側ケースの下部両側に配設してなる長手状の中間ケースとからなるケースと、前記上側ケースと中間ケースとの間に介装された断面略凹状でかつ長手状の中間プレートと、前記中間プレートの凹部内に配設した800KHz以下の低い周波数で駆動される超音波振動子と、前記超音波振動子と対向しかつ前記中間ケースの下方側部に折曲部を固着してなる断面略凹状の振動プレートとを備え、前記振動プレートの折曲部は、被洗浄物との離間距離が振動共振長λ/2の整数倍の範囲内で設定してなることを特徴とする超音波洗浄装置。
IPC (4):
B08B 3/12
, B05B 1/14
, F04F 7/00
, H01L 21/304 341
FI (4):
B08B 3/12 Z
, B05B 1/14 Z
, F04F 7/00
, H01L 21/304 341 M
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