Pat
J-GLOBAL ID:200903069428044377
X線装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
横川 邦明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995142469
Publication number (International publication number):1996313458
Application date: May. 17, 1995
Publication date: Nov. 29, 1996
Summary:
【要約】【目的】 単結晶モノクロメータを用いたX線装置において、断面径を小さく規制した強度の強いX線ビームを試料に照射できるようにして高精度のX線測定を可能にする。【構成】 X線源1から出るX線Rを試料に照射し、その試料を回折、反射又は散乱したX線を受光スリットを通してX線検出器によって検出するX線装置において、試料へ入射する入射X線R1の中心線Lcを含む面に含まれる軸線L1を中心として曲率半径RX で湾曲、すなわち縦方向に関して湾曲するモノクロメータ2をX線源1から試料に至るX線の光路上に設ける。4軸ゴニオメータを用いた単結晶構造解析装置や、小角散乱装置に適用した場合に、信頼性の高い測定結果を得ることに関して特に有利である。
Claim (excerpt):
X線源から出るX線を試料に照射し、その試料を経由したX線を受光スリットを通してX線検出器によって検出するX線装置において、試料へ入射する入射X線の中心線を含む面に含まれる軸線を中心として湾曲するモノクロメータをX線源から試料に至るX線の光路上に設けたことを特徴とするX線装置。
Return to Previous Page