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J-GLOBAL ID：200903069442201450

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

Inventor： 山田 愛理 ,  末次 益実 ,  上谷 保則
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001300867
Publication number (International publication number)：2003107708
Application date： Sep. 28, 2001
Publication date： Apr. 09, 2003
Summary：

【要約】【課題】感度、解像度などの基本的な性能を落とさずにコストが低減された化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)p-ヒドロキシスチレンから導かれる重合単位、及び式(1)もしくは式(2)(R1、R2は、水素またはメチル基。R3〜R5は、炭素数1〜8のアルキル基。)で示される重合単位を有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、並びに(B)ポリ(p-ヒドロキシスチレン)のヒドロキシル基の一部を、酸により解裂しない保護基で保護した樹脂、もしくはヒドロキシル基の一部を水素で置き換えた樹脂、並びに(C)酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)p-ヒドロキシスチレンから導かれる重合単位、及び式(1)もしくは式(2)(式中、R1、R2は、それぞれ独立に水素またはメチル基を表し、R3〜R5は、それぞれ独立に炭素数1〜8のアルキル基を表す。)で示される重合単位を有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、並びに(B)ポリ(p-ヒドロキシスチレン)のヒドロキシル基の一部を、酸により解裂しない保護基で保護した樹脂、もしくはヒドロキシル基の一部を水素で置き換えた樹脂、並びに(C)酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (19)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA20P ,  4J100BC09Q ,  4J100JA38