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J-GLOBAL ID：200903069452975969

光触媒性親水性被膜形成前の表面の前処理法並びにそれに用いられる洗浄剤およびアンダーコート組成物

Inventor： 菅 野 充 誠 ,  早 川 信 ,  柴 戸 雅 博 ,  山 本 政 宏 ,  町 田 光 義
Applicant, Patent owner： 東陶機器株式会社
Agent (1)： 佐藤 一雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998156232
Publication number (International publication number)：1999050006
Application date： Jun. 04, 1998
Publication date： Feb. 23, 1999
Summary：

【要約】【課題】 良好な光触媒性親水性被膜を得ることができる、光触媒性親水性被膜を形成する前の基材表面を処理方法を含めた、光触媒性親水性被膜の形成方法、並びにその方法に用いられる洗浄剤およびアンダーコート組成物の提供。【解決手段】 基材表面を所定の洗浄剤で洗浄し、または基材表面を所定の洗浄剤で洗浄し、その後基材表面に所定のアンダーコート組成物を適用してアンダーコート層を形成し、その後に光触媒性親水性コ-ティング液を塗布し、硬化させて被膜を形成することにより、良好な光触媒性親水性被膜が得られる。そして、本発明において洗浄剤とは、界面活性剤、研磨剤、酸、および塩基からなる群から選択される少なくとも一種を含んでなるものであり、アンダーコート組成物とは、無機酸化物粒子またはシリコーン若しくはシリコーン前駆体と、溶媒とを少なくとも含んでなるものである。

Claim (excerpt)：

界面活性剤、研磨剤、酸、塩基、および溶剤からなる群から選択される少なくとも一種を含んでなる、光触媒性親水性被膜が形成される基材表面を洗浄するための洗浄剤。

IPC (4)：

C09D183/04 ,  C03C 17/30 ,  C09D 5/00 ,  C11D 3/14

FI (5)：

C09D183/04 ,  C03C 17/30 Z ,  C09D 5/00 D ,  C09D 5/00 Z ,  C11D 3/14