超音波を用いる分散混合物の製造用装置及び該装置の使用法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：矢野敏雄 (外4名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000525202
Publication number (International publication number)：2001526108
Application date： Dec. 18, 1998
Publication date： Dec. 18, 2001
Summary：

【要約】本発明は、超音波を用いる分散混合物の製造用装置、殊にミニエマルジョン、即ち、1μm未満の平均液滴径を有するエマルジョンの製造用装置に関するものである。該超音波装置には、ケーシング(11)、該ケーシング中に設けられた反応室(12)及び、反応室(12)と効果的に接続している放射面(14)を有する少なくとも1個のソノトロード(13)が含まれる。ソノトロード(13)の放射面(14)は、本質的に反応室(12)の表面に相応しているかもしくは、反応室(12)が貫流反応路(15)の部分区間である場合には、本質的に通路(15)の幅全体に延在している。反応室(12)の本質的に垂直方向の凹み(12b)中の放射面(14)は、ソノトロード(13)の最大作用深度よりも小さい。

Claim (excerpt)：

ケーシング(11)、該ケーシング中に設けられた反応室(12)及び、反応室(12)と効果的に接続している1つの自由な放射面(14)を有する少なくとも1つの超音波の伝達手段(13)を有する超音波を用いる分散混合物の製造用装置において、超音波の伝達手段(13)の放射面(14)が、本質的に、反応室(12)の表面に相応するか又は反応室(12)が貫流反応通路(15)の部分区間であり、本質的に通路(15)の幅全体にわたって延在しており、放射面(14)に対して本質的に垂直な反応室(12)の凹み(12b)が、超音波伝達手段(13)の最大作用深度よりも小さいことを特徴とする、超音波を用いる分散混合物の製造用装置。

IPC (3)：

B01F 11/02 , B01J 19/10 , C08F 2/56

FI (3)：

B01F 11/02 , B01J 19/10 , C08F 2/56

F-Term (18)：

4G036AB22 , 4G036AB25 , 4G075AA13 , 4G075AA27 , 4G075BB08 , 4G075CA23 , 4G075DA02 , 4G075EA01 , 4G075EB01 , 4G075EB31 , 4G075ED15 , 4J011KA02 , 4J011KA03 , 4J011KA04 , 4J011KA08 , 4J011KB08 , 4J011KB11 , 4J011KB17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

HDTV信号のレベル判別回路
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-213258 Applicant：日本電気株式会社
混合方法および混合装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-307160 Applicant：エヌオーケー株式会社
特開平4-059032

Show all

Return to Previous Page