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J-GLOBAL ID：200903069470978290

電子ビームアニール装置

Inventor： 佐藤 忠 ,  市村 智
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994310209
Publication number (International publication number)：1996165563
Application date： Dec. 14, 1994
Publication date： Jun. 25, 1996
Summary：

【要約】【構成】中性ガスを電離してプラズマを発生するプラズマ発生容器2と,プラズマより電子を電子ビームとして引き出す引き出し電極6,7と,電子ビームが入射する基板12と真空容器13よりなる装置において、プラズマ発生容器2の外周又は内周に交互に磁極が変化するように永久磁石3を設けた電子ビームによるアニール装置である。【効果】従来の電子ビームアニール装置では困難であった6吋或いは8吋以上の大面積ウェハを一括してアニールできるようになった。

Claim (excerpt)：

中性ガスを電離してプラズマを発生するプラズマ発生容器と,前記プラズマより電子を電子ビームとして引き出す引き出し電極と,前記電子ビームが入射する基板と、真空容器とを含む電子ビーム装置において、前記プラズマ発生容器の外周又は内周に、交互に磁極が変化するように永久磁石を設け、前記プラズマ発生容器から前記電子ビームを取り出し、前記電子ビームで前記基板をアニールすることを特徴とする電子ビームアニール装置。

IPC (4)：

C23C 14/30 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/317 ,  H01L 21/263