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J-GLOBAL ID：200903069485350042

タンタル薄膜およびタンタルを主体とした薄膜並びにそれらの作製方法

Inventor： バリー シー. アークルズ ,  アラン イー. カロエロス
Applicant, Patent owner： ゲレスト インコーポレーテツド ,  ザ リサーチ フアウンデーシヨン オブ ステート ユニバーシテイ オブ ニユーヨーク
Agent (1)： 東島 隆治 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998202664
Publication number (International publication number)：2000007337
Application date： Jun. 12, 1998
Publication date： Jan. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】 タンタルを含む薄膜を基板上に化学蒸着する方法を提供する。【解決手段】 蒸着チャンバ内に(i)基板と;(ii)蒸気の状態にある原料前駆体と;(iii)少なくとも1種のキャリヤガスとを導入することと、タンタルを含む薄膜を基板上に蒸着するために十分な期間、チャンバ内の基板の温度を約70°Cないし約675°Cに維持することとを包含している。原料前駆体は以下の式(I)で表される: Ta(I5-m-n-p)(Brm-p)(Cln-p)(Rp) (I)(mは0から5までの整数、nは0から4までの整数、pは0から4までの整数、Rは水素と低級アルキルとからなる群より選択される。)

Claim (excerpt)：

タンタルを含む薄膜を基板上に化学蒸着する方法であって、(a)蒸着チャンバ内に:(i)基板;(ii)蒸気の状態にあって式(I): Ta(I5-m-n-p)(Brm-p)(Cln-p)(Rp) (I)(mは0から5までの整数、nは0から4までの整数、pは0から4までの整数、Rは水素と低級アルキルとからなる群より選択される)で表される原料前駆体;および(iii)少なくとも1種のキャリヤガスを導入するステップと、(b)タンタルを含む薄膜を前記基板上に蒸着するために十分な期間、前記チャンバ内の前記基板の温度を約70°Cないし約675°Cに維持するステップとを具備する方法。

IPC (6)：

C01G 35/00 ,  C23C 16/08 ,  C23C 16/18 ,  C23C 16/34 ,  C23C 16/42 ,  C23C 16/50

FI (7)：

C01G 35/00 B ,  C01G 35/00 D ,  C23C 16/08 ,  C23C 16/18 ,  C23C 16/34 ,  C23C 16/42 ,  C23C 16/50

F-Term (32)：

4G048AA01 ,  4G048AA06 ,  4G048AB01 ,  4G048AC08 ,  4G048AD02 ,  4G048AE05 ,  4G048AE06 ,  4G048AE07 ,  4K030AA02 ,  4K030AA03 ,  4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030AA11 ,  4K030AA16 ,  4K030AA17 ,  4K030AA18 ,  4K030BA17 ,  4K030BA29 ,  4K030BA35 ,  4K030BA38 ,  4K030BA48 ,  4K030CA02 ,  4K030CA06 ,  4K030CA07 ,  4K030FA01 ,  4K030FA10 ,  4K030JA05 ,  4K030JA10 ,  4K030JA11 ,  4K030JA16 ,  4K030JA18 ,  4K030LA15