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J-GLOBAL ID：200903069497343157

パターン比較検査方法及び装置

Inventor： 岡 健次 ,  広井 高志 ,  前田 俊二 ,  牧平 坦 ,  窪田 仁志
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994080119
Publication number (International publication number)：1995286831
Application date： Apr. 19, 1994
Publication date： Oct. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】本発明は、光学干渉を用いたパターン比較検査装置に於いて、その目的は、欠陥検出のS/Nを改善することにより微小欠陥の検出を行うことにある。【構成】対象物をコヒーレントまたはパーシャルコヒーレントに照明する照明光学系と照明による反射検出光を干渉させてパターンの差を取る干渉光学系3とそのパターン差と干渉を行う前の画像をセンサで検出し、得られた画像より位相情報画像の復元を行う画像復元部、復元画像のパターン差情報より欠陥を検出する欠陥検出部よりなる。【効果】本発明により光学干渉によるパターン比較検査等に於いて干渉光学系の消光比の改善が可能となり、微細欠陥の安定した検出が可能となる。

Claim (excerpt)：

同一パターンであるはずの対象物の2つのパターンを干渉を用いて比較検査する方法に於いて、欠陥検出のS/Nを改善することを特徴とするパターン比較検査方法。

IPC (4)：

G01B 11/24 ,  G01N 21/88 ,  G06T 7/00 ,  H01L 21/66