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J-GLOBAL ID：200903069528171830

エキシマレーザー用ミラー

Inventor： 白井 健 ,  網干 順治
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996072749
Publication number (International publication number)：1997265005
Application date： Mar. 27, 1996
Publication date： Oct. 07, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 λ=160〜300nmの範囲で任意の約40nmの波長範囲のエキシマレーザーに対して95%以上の高反射率を示し、S偏光及びP偏光間で入射角度による反射率の変化が小さく、密着性、耐レーザー性の良好なエキシマレーザー用ミラーを提供する。【解決手段】 少なくとも、基板上に、誘電体膜、金属膜、高屈折率層及び低屈折率層の交互層を順次積層してなるエキシマレーザー用ミラーであって、前記交互層の膜構成がn1L(n1H・n2L)i・n1H・n1L・n2H(n3L・n3H)j・n3L・n2Hであり、かつ光学的膜厚が下記の関係であること。但し、n1L、n2L、n3Lは低屈折率層の屈折率、n1H、n2H、n3Hは高屈折率層の屈折率、i,j=1,2,3・・・、n1L・d1L、n1H・d1H、n2L・d2L、n2H・d2H、n3L・d3L、n3H・d3Hはそれぞれ、膜構成n1L、n1H、n2L、n2H、n3L、n3Hの光学的膜厚である。2n1L・d1L=n1H・d1H=n2L・d2L2n2H・d2H=n3L・d3L=n3H・d3Hn1L・d1L>n2H・d2H

Claim (excerpt)：

少なくとも、基板上に、誘電体膜、金属膜、高屈折率層及び低屈折率層の交互層を順次積層してなるエキシマレーザー用ミラーであって、前記交互層の膜構成がn1L(n1H・n2L)i・n1H・n1L・n2H(n3L・n3H)j・n3L・n2Hであり、かつ光学的膜厚の関係が、2n1L・d1L=n1H・d1H=n2L・d2L2n2H・d2H=n3L・d3L=n3H・d3Hn1L・d1L>n2H・d2Hであることを特徴とするエキシマレーザー用ミラー。但し、n1L、n2L、n3Lは低屈折率層の屈折率、n1H、n2H、n3Hは高屈折率層の屈折率、i,j=1,2,3・・・、n1L・d1L、n1H・d1H、n2L・d2L、n2H・d2H、n3L・d3L、n3H・d3Hはそれぞれ、膜構成n1L、n1H、n2L、n2H、n3L、n3Hの光学的膜厚である。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭63-208801
  
• 特開平1-310302
  
• 特開昭63-208801
  
• 特開平1-310302