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J-GLOBAL ID：200903069543983360

薄膜光回路素子およびその製造方法

Inventor： 金子 丈夫 ,  森 克己
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998057202
Publication number (International publication number)：1999261161
Application date： Mar. 09, 1998
Publication date： Sep. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】 寿命の長い薄膜光回路素子を提供する。【解決手段】 導波路薄膜(102)より低い屈折率を備え、かつ、溝(110)が設けられた基板(100)、基板(100)の溝(110)に設けられた結晶核(121)から結晶成長したガリウム系化合物で形成された導波路薄膜(102)を備える。溝(110)から結晶成長が行うことで、無転移の導波路薄膜(102)を提供可能であり、寿命を延ばすことができる。

Claim (excerpt)：

導波路薄膜より低い屈折率を備えかつ当該導波路薄膜の形成面に溝が設けられている基板と、前記基板の溝に設けられた結晶核から結晶成長したガリウム系化合物で形成された前記導波路薄膜と、を備え、当該導波路薄膜を介して光を伝達可能に構成されていることを特徴とする薄膜光回路素子。

IPC (4)：

H01S 3/18 ,  B41J 2/01 ,  H01L 21/203 ,  H01L 33/00

FI (4)：

H01S 3/18 ,  H01L 21/203 Z ,  H01L 33/00 C ,  B41J 3/04 101 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭57-182719
  
• 特開昭59-143108