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J-GLOBAL ID：200903069573130834

新規のポリマーとそれを適用したフォトレジスト組成物

Inventor： ティモシー・ジー・アダムズ ,  マシュー・エー・キング ,  ジョージ・ジー・バークレー ,  エイミー・エム・クォック ,  ズィビアオ・マオ ,  ロジャー エフ・シンタ
Applicant, Patent owner： シップレーカンパニー エル エル シー
Agent (1)： 佐伯 憲生
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999115332
Publication number (International publication number)：2000267286
Application date： Mar. 19, 1999
Publication date： Sep. 29, 2000
Summary：

【要約】【課題】 高性能な実用化においても問題なく適用できるような、カルボキシ基および/またはカルボキシルの前駆体となる基を含む新規のポリマーを提供すること、およびそのようなポリマーをフォトレジスト組成物として使用すること。【解決手段】 本発明のポリマーは、側基としてのカルボキシルもしくはカルボキシルの前駆体となる基を含み、この基は、前記ポリマーの主鎖に直接結合せずに主鎖との間に1つもしくはそれより多くのケト基以外の原子を介する。

Claim (excerpt)：

光活性成分とポリマーを含むフォトレジスト組成物において、前記ポリマーが側基としてのカルボキシルもしくはカルボキシルの前駆体となる基を含み、この基は、前記ポリマーの主鎖に直接結合せずに主鎖との間に1つもしくはそれより多くのケト基以外の原子を介することを含む、フォトレジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (15)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC03 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17