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J-GLOBAL ID：200903069620291370
真空成膜装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993050898
Publication number (International publication number)：1994267858
Application date： Mar. 11, 1993
Publication date： Sep. 22, 1994
Summary：
【要約】【目的】 本発明は、真空成膜装置のダウンタイムの短縮を目標として、真空をやぶることなく迅速に真空室内部材を交換することを目的とする。【構成】 成膜室の近隣に、成膜室内の基板以外の部材を真空中で交換し、処理するための異なる機能を有する室を2つ以上持つことを特徴とする成膜装置である。
Claim (excerpt)：
真空槽内で成膜を行う真空成膜装置において、成膜室の近隣に成膜室内の基板以外の部材を真空中で交換し、処理するための異なる機能を有する室を2つ以上持つことを特徴とする成膜装置。
IPC (2)：
H01L 21/205
, H01L 21/203
