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J-GLOBAL ID：200903069655394279

処理装置

Inventor： 坂本 泰大
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
Agent (1)： 浅井 章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991315403
Publication number (International publication number)：1993129174
Application date： Nov. 02, 1991
Publication date： May. 25, 1993
Summary：

【要約】【目的】 各処理ユニットの上方に少なくとも電装部品を収容するための収納部を設けてその排熱を特別の通路で排出する。【構成】 被処理体Wを処理するコータユニット8、現像ユニット10、熱処理ユニット14などの処理ユニット群を並設し、この上方に支柱32を介して収納部30を設け、この収納部30内に発熱を伴う電装部品46を収容する。そして、この内部を通過した清浄空気が上記処理ユニット群に当たらないようにするために温風の清浄空気を集めて排気する排気通路50を形成する。これにより、安全性を向上させつつ従来の外置物を装置内へ収容するためのスペースを確保する。

Claim (excerpt)：

被処理体を処理する処理ユニットと、前記処理ユニットの上方に配置され、少なくとも前記処理ユニットに関する電装部品を収納する収納部と、前記収納部を通過した空気が前記処理ユニットに流れることを阻止するために前記収納部を通過した空気を排気する排気通路とを有するように構成したことを特徴とする処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/02 ,  H01L 21/027 ,  H05K 7/20

FI (4)：

H01L 21/30 301 H ,  H01L 21/30 301 J ,  H01L 21/30 361 C ,  H01L 21/30 361 L