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J-GLOBAL ID：200903069672803301

プラズマ処理装置の試料保持方法

Inventor： 掛樋 豊 ,  仲里 則男 ,  福島 喜正 ,  平塚 幸哉 ,  柴田 史雄 ,  山本 則明 ,  坪根 恒彦
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高田 幸彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995050782
Publication number (International publication number)：1996153713
Application date： Nov. 28, 1983
Publication date： Jun. 11, 1996
Summary：

【要約】【目的】真空処理される試料をいためたり、基板内の素子ダメージを与えないでかつ、搬送に時間を要しない、プラズマ処理装置の試料保持方法を提供する。【構成】プラズマ処理する試料を、真空処理室10内の試料台への直流電圧印加により静電吸着・保持し、この試料50の裏面に試料台との間の伝熱用ガスを供給し、真空処理室に高周波電力を印加して処理ガスをプラスマ化し、該プラスマにより試料の処理を行い、プラズマ処理の終了に伴い、伝熱用ガスの供給停止及び静電吸着のための直流電圧の印加を停止した後、プラズマ発生用の高周波電力の印加を停止する。【効果】伝熱ガスの圧力による試料の飛び跳ねを生じさせることなく、試料に残っている静電吸着力の解除もでき、試料台からの試料の離脱も容易になり試料の搬送が容易に行える。

Claim (excerpt)：

プラズマ処理する試料を、真空処理室内の試料台への直流電圧印加により静電吸着・保持し、該吸着保持した前記試料の裏面に前記試料台との間の伝熱用ガスを供給し、前記真空処理室に高周波電力を印加して処理ガスをプラスマ化し、該プラスマにより試料の処理を行い、該プラズマ処理の終了に伴い、前記伝熱用ガスの供給停止及び前記静電吸着のための直流電圧の印加を停止した後、前記プラズマ発生用の高周波電力の印加を停止することを特徴とするプラズマ処理装置の試料保持方法。

IPC (6)：

H01L 21/3065 ,  B01J 3/00 ,  B01J 19/08 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/68 ,  H05H 1/46