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J-GLOBAL ID:200903069683966458
プラズマディスプレイパネルの製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大井 正彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996196304
Publication number (International publication number):1997102273
Application date: Jul. 25, 1996
Publication date: Apr. 15, 1997
Summary:
【要約】【課題】 膜厚の大きい誘電体層を効率的に形成することができる新規な形成工程を含むプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供すること。【解決手段】 支持フィルム上に形成された膜形成材料層を、電極が固定されたガラス基板の表面に転写し、転写された膜形成材料層を焼成することにより、前記ガラス基板の表面に誘電体層を形成する工程を含むことを特徴とする。
Claim (excerpt):
支持フィルム上に形成された膜形成材料層を、電極が固定されたガラス基板の表面に転写し、転写された膜形成材料層を焼成することにより、前記ガラス基板の表面に誘電体層を形成する工程を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
IPC (2):
FI (2):
H01J 9/02 F
, C03C 17/04 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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プラズマディスプレイパネルの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-056660
Applicant:富士通株式会社
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特開平4-147535
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特開平2-051444
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特公平2-001100
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特開平2-209487
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