露光方法及び露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大森聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993014482
Publication number (International publication number)：1994232030
Application date： Feb. 01, 1993
Publication date： Aug. 19, 1994
Summary：

【要約】【目的】スリットスキャン露光方式で露光を行う際に、感光基板上での露光量を適正露光量にする。【構成】光源1からの照明光を減光手段3等を介して視野絞り7に導き、視野絞り7の開口部と共役なレチクルR上のスリット状の照明領域26に均一な照度で照明光を照射し、レチクルR及びXYステージ18上のウエハWをその照明領域26に対して走査しつつ、レチクルRのパターンを投影光学系16を介してウエハW上に露光する。予め、XYステージ18上の光電検出器20を用いて、照明領域26と共役なスリット状の露光領域26Pの走査方向の幅を計測しておき、この計測結果に応じて走査速度及び光源1の出力パワー等を調整する。

Claim (excerpt)：

転写用のパターンが形成されたマスク上のスリット状の照明領域を照明し、該スリット状の照明領域に対して相対的に前記マスク及び感光基板を同期して走査することにより、前記マスク上の前記スリット状の照明領域よりも広い面積のパターンを前記感光基板上に露光する方法において、前記マスクとして前記相対的な走査方向に前記スリット状の照明領域の光を通過させる開口部が形成されたマスクを配置し、前記感光基板の配置面で前記スリット状の照明領域に対応する領域の前記相対的な走査方向の幅を計測し、該計測された幅に基づいて前記マスク及び前記感光基板の走査速度並びに前記スリット状の照明領域に対応する前記感光基板上の領域での単位時間当りの露光エネルギーを制御することを特徴とする露光方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 311 S , H01L 21/30 311 L

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平2-065222
特開平4-196513
特開昭62-193125

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