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J-GLOBAL ID：200903069734525583

半導体製造装置

Inventor： 斉藤 芳彦
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 諸田 英二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992206101
Publication number (International publication number)：1994029224
Application date： Jul. 09, 1992
Publication date： Feb. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】ロードロック室、自動搬送系及びディスク高速回転方式を有する枚葉式気相エピタキシャル成長装置において、被処理ウェーハがウェーハホルダーの正常の位置にセットされない状態で高速回転すると、エピタキシャル膜の品質の低下やウェーハ破損による稼働率の低下などを招く。これを防止し、装置の信頼性を向上する。【構成】ウェーハをウェーハホルダーに自動搬送した際に、ウェーハが正常な位置にセットされたか否かを検知する機構(例えば発光素子からのビーム光をウェーハに入射し、反射光を受光素子で検知する)と、正常な位置にセットされていない場合には、正常な位置にセットする機構(例えば、警報を発し、ウェーハを前段工程に戻し、セット動作をやり直す)とを前記成長装置に新設する。

Claim (excerpt)：

ロードロック室、自動搬送系及びディスク高速回転方式を有する枚葉式気相エピタキシャル成長装置において、ウェーハがディスクのウェーハホルダーの正常な位置にセットされたことを確認する機構を有し、かつ正常にセットされていない場合には、正常な位置にセットする機構を持つことを特徴とする半導体製造装置。

IPC (2)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/68