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J-GLOBAL ID：200903069758572051

セルローストリアセテートフィルムの製造方法、及びこれを用いたセルローストリアセテートフィルム、並びにこれを用いた偏光板

Inventor：
川瀬 恒雄

About 川瀬 恒雄


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 松浦 憲三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002027696
Publication number (International publication number)：2003225912
Application date： Feb. 05, 2002
Publication date： Aug. 12, 2003
Summary：
【要約】【課題】マット剤起因の異物発生を抑制でき、且つ、マット剤の量と添加剤の量を別々に調整できるセルローストリアセテートフィルムの製造方法を提供する。【解決手段】本発明を用いた製造装置10は、別々に調製したマット剤液と添加剤液とを第二のインラインミキサー28で混合し、この混合液とドープ14を第一のインラインミキサー22で混合し、これを流延ダイ24から流延バンド38上に押し出して流延するようにした。
Claim (excerpt)：
マット剤と添加剤を含有するセルローストリアセテートフィルムの製造方法において、マット剤液と添加剤液とを別々に調製し、該混合液をセルローストリアセテートのドープに連続的に混合し、該ドープを流延してフィルムを製造することを特徴とするセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
IPC (9)：
B29C 41/28 ,  C08J 5/18 CEP ,  C08K 3/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 1/12 ,  G02B 5/30 ,  G02F 1/1335 510 ,  B29K 1:00 ,  B29L 7:00
FI (9)：
B29C 41/28 ,  C08J 5/18 CEP ,  C08K 3/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 1/12 ,  G02B 5/30 ,  G02F 1/1335 510 ,  B29K 1:00 ,  B29L 7:00
F-Term (55)：
2H049BA06 ,  2H049BB33 ,  2H049BC22 ,  2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FB02 ,  2H091LA30 ,  4F071AA09 ,  4F071AB26 ,  4F071AC10 ,  4F071AC15 ,  4F071AC19 ,  4F071AE04 ,  4F071AE05 ,  4F071AE17 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4F205AA01 ,  4F205AB07 ,  4F205AB11 ,  4F205AB14 ,  4F205AB17 ,  4F205AC05 ,  4F205AH73 ,  4F205GA07 ,  4F205GB02 ,  4F205GC07 ,  4F205GE21 ,  4F205GF02 ,  4J002AB021 ,  4J002AB022 ,  4J002BC032 ,  4J002BD152 ,  4J002BG062 ,  4J002CG012 ,  4J002CP032 ,  4J002DE096 ,  4J002DE106 ,  4J002DE136 ,  4J002DE146 ,  4J002DE236 ,  4J002DJ006 ,  4J002DJ016 ,  4J002DJ036 ,  4J002DJ046 ,  4J002EH147 ,  4J002EJ067 ,  4J002EU177 ,  4J002EU187 ,  4J002EW047 ,  4J002FD012 ,  4J002FD016 ,  4J002FD027 ,  4J002FD057 ,  4J002GG02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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