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J-GLOBAL ID：200903069773236840

薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法

Inventor： 雨森 和彦
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 福島 康文
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992292804
Publication number (International publication number)：1994150257
Application date： Oct. 30, 1992
Publication date： May. 31, 1994
Summary：

【要約】【目的】ヘッド素子部が薄膜技術によって積層形成される薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法に関し、コイルと磁極先端面との距離を縮小して、磁気効率を向上させると共に、コンタクト部の耐摩耗性にすぐれ、かつ量産に適した薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法を実現することを目的とする。【構成】垂直磁気記録型の磁気記録媒体Dに対し垂直な基板面22aに、少なくとも下部コイル層16、絶縁層17、主磁極18、絶縁層19、下部コイル層16と接続して螺旋状コイルを形成する上部コイル層20、絶縁層21の順に積層され、主磁極18の先端面が、磁気記録媒体Dと接するように露出した構成とする。

Claim (excerpt)：

垂直磁気記録型の磁気記録媒体(D) に対し垂直な基板面22aに、少なくとも下部コイル層16、絶縁層17、主磁極18、絶縁層19、下部コイル層16と接続して螺旋状コイルを形成する上部コイル層20、絶縁層21の順に積層され、主磁極18の先端面が、磁気記録媒体(D) と接するように露出した構成となっていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。