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J-GLOBAL ID：200903069795600979

紫外線吸収剤

Inventor： 藤 加珠子 ,  野田 博行
Applicant, Patent owner： 財団法人山形県企業振興公社
Agent (1)： 特許業務法人特許事務所サイクス
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002300275
Publication number (International publication number)：2004131672
Application date： Oct. 15, 2002
Publication date： Apr. 30, 2004
Summary：

【課題】安価に製造することができて、紫外線吸収能が高くて安全な紫外線吸収剤を提供すること。【解決手段】化学物質あるいは金属イオンの付加処理、酸化処理、還元処理、アルカリ処理、酸処理、電磁波処理、酵素処理、微生物処理、亜臨界流体処理及び超臨界流体処理から選択される1以上の処理を施したリグニンを含む紫外線吸収剤。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

化学物質あるいは金属イオンの付加処理、酸化処理、還元処理、アルカリ処理、酸処理、電磁波処理、酵素処理、微生物処理、亜臨界流体処理及び超臨界流体処理から選択される1以上の処理を施したリグニンを含む紫外線吸収剤。

IPC (6)：

C09K3/00 ,  A61K7/00 ,  A61K7/42 ,  A61K35/78 ,  A61P17/16 ,  C07G1/00

FI (6)：

C09K3/00 104Z ,  A61K7/00 K ,  A61K7/42 ,  A61K35/78 X ,  A61P17/16 ,  C07G1/00

F-Term (29)：

4C083AA111 ,  4C083AA112 ,  4C083BB46 ,  4C083CC01 ,  4C083CC02 ,  4C083EE17 ,  4C083FF01 ,  4C088AB74 ,  4C088AC04 ,  4C088AC06 ,  4C088BA19 ,  4C088CA01 ,  4C088CA25 ,  4C088CA26 ,  4C088MA02 ,  4C088MA63 ,  4C088NA14 ,  4C088ZA89 ,  4H055AA02 ,  4H055AB12 ,  4H055AB20 ,  4H055AB35 ,  4H055AB92 ,  4H055AC01 ,  4H055AC12 ,  4H055AD30 ,  4H055BA01 ,  4H055CA60 ,  4H055CA64

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• カチオン性リグニン物質及びその用途
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-026178   Applicant：木質新素材技術研究組合
• 特開平4-033986
  
• 紫外線吸収性被膜とその製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-082075   Applicant：林野庁森林総合研究所長, 株式会社植物エコロジー研究所
• リグノフェノール誘導体を含むセルロース系組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-297283   Applicant：舩岡正光
• 紫外線吸収剤及びそれを含有した皮膚外用剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-014148   Applicant：株式会社ポッカコーポレーション, 田口寛
• 紫外線吸収性を有する組成物とその製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-082074   Applicant：林野庁森林総合研究所長, 株式会社植物エコロジー研究所