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J-GLOBAL ID：200903069800922220

光ディスク原盤露光機及び光ディスク原盤製造方法

Inventor： 水田 治
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Agent (1)： 柏木 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996038500
Publication number (International publication number)：1997231566
Application date： Feb. 26, 1996
Publication date： Sep. 05, 1997
Summary：

【要約】【課題】 光ディスク原盤に、片側のみウォブリングした案内溝を一本の露光ビームだけで形成する。【解決手段】 レーザ光を光ディスク原盤となるフォトレジスト膜に導く露光光学系中に、レーザ光の光量を変調する光量変調器とレーザ光を偏向変調する偏向変調器とを設ける。そして、アドレス情報を周波数変調して生成した周波数変調信号に同期させて、光量変調器によるレーザ光の光量変調と偏向変調器によるレーザ光の偏向変調とを行ない、片側のみウォブリングした案内溝12をフォトレジスト膜に形成する。したがって、そのような案内溝12がフォトレジスト膜露光用の一本の露光ビームだけで形成されるため、制御が容易になり、案内溝の形成精度も高まる。

Claim (excerpt)：

レーザ光源から出射されたレーザ光を光ディスク原盤となるフォトレジスト膜に導く露光光学系と、この露光光学系内に設けられてレーザ光の光量を変調する光量変調器と、前記露光光学系内に設けられてレーザ光を偏向変調する偏向変調器と、アドレス情報を周波数変調して周波数変調信号を生成する信号変調手段と、前記光量変調器によるレーザ光の光量変調と前記偏向変調器によるレーザ光の偏向変調とを前記周波数変調信号に同期させて片側のみウォブリングした案内溝を前記フォトレジスト膜に形成する同期変調手段と、を備えることを特徴とする光ディスク原盤露光機。

IPC (3)：

G11B 7/00 ,  G11B 7/24 561 ,  G11B 7/26 501

FI (3)：

G11B 7/00 K ,  G11B 7/24 561 R ,  G11B 7/26 501