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J-GLOBAL ID：200903069810769470
ウエハ温度制御方法及び装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高田 幸彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992031794
Publication number (International publication number)：1993234944
Application date： Feb. 19, 1992
Publication date： Sep. 10, 1993
Summary：
【要約】【目的】プラズマによりエッチング処理されるウエハの温度分布の均一化を図る。【構成】プラズマ7によりエッチング処理されるウエハ1を支持する静電吸着電極2表面に、リング状の溝18,19とこの溝18,19を結ぶ放射状の溝20を設け、さらに、静電吸着電極2中央のHeガス14の導入孔21とリング状の溝18の間に溝の形成されてない円環状部22を設ける。【効果】ウエハ裏面のHeガスの圧力をウエハ外周に比べて中央の方を高くできるので、ウエハと押し上げ機構のギャップおよび静電吸着電極と押し上げ機構の温度差によって生じる温度分布の不均一が補正され、エッチング処理中のウエハの温度分布の均一化を図ることができる。
Claim (excerpt)：
ウエハを載置し、そのウエハとの間に冷却ガスを供給して処理中のウエハの温度を制御するウエハ温度制御方法において、前記冷却ガスの圧力にウエハ裏面内で分布を与え、ギャップの違いによる熱抵抗の違いを補正するようにしたことを特徴とするウエハ温度制御方法。
IPC (3)：
H01L 21/302
, B65G 49/07
, H01L 21/68
