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J-GLOBAL ID：200903069825750350

デバイスの製造方法

Inventor： ジェームス エドワード ハンソン ,  アンソニー エドワード ノーベンブル
Applicant, Patent owner： エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション
Agent (1)： 三俣 弘文
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992137577
Publication number (International publication number)：1995225473
Application date： May. 01, 1992
Publication date： Aug. 22, 1995
Summary：

【要約】【目的】 適切な感光性を有する安価な酸生成剤を含有するレジストによるデバイスの製造方法を実現する。【構成】 酸生成剤と、酸に対して敏感な材料から、化学線に対して敏感なレジスト材料が生成される。酸生成剤からの酸は酸感受性材料と相互反応し、溶解度を変化させる。特に有用な酸生成剤はベンジルおよびナフチルメチルスルホンである。

Claim (excerpt)：

デバイス基板上にレジスト層を形成し、前記レジスト層を化学線で露光して所望のパターンを形成し、前記パターンを現像する工程からなり、前記レジストは、前記レジストに溶解度の変化を起こさせるために、露光により酸を生成する酸生成剤を含有することからなるデバイスの製造方法において、前記酸生成剤は次式、【化10】 (式中、xはゼロまたは1である;Aは芳香環、カルボニルまたはシアノ基である;R1 ,R2 ,R3 およびR5 は前記酸を安定にするようなものが選択される。)で示される組成物からなることを特徴とするデバイスの製造方法。

IPC (5)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 515 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特表平4-500698
  
• 特開平2-265950