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J-GLOBAL ID：200903069829691626
拡散ウエーハの製造方法及びその拡散ウエーハ
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
高橋 昌久 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998098495
Publication number (International publication number)：1999283891
Application date： Mar. 26, 1998
Publication date： Oct. 15, 1999
Summary：
【要約】【課題】 拡散ウエーハの外周部からのオートドープを抑制し、複数のオリフラ又はノッチを形成する場合でも、二分割スライス技術を適用できる拡散ウエーハの製造方法及びその拡散ウエーハを提供する。【解決手段】 本発明は、規格口径より僅かに大なる口径のウエーハについて両面不純物拡散を行なった後、前記二分割を行ない、該二分割したウエーハ外周部の拡散層を除去して前記不純物拡散層と非拡散層からなるウエーハを形成する。又、ウエーハ外周縁に複数のオリフラ等を形成する場合には、二分割したウエーハの外周部除去工程において、同時に第二のオリフラ又はノッチを形成する。
Claim (excerpt)：
両面に不純物が拡散された不純物拡散層を有するウエーハを厚み幅の中央線に沿って二分割することにより前記不純物拡散層と非拡散層からなるウエーハを形成してなる拡散ウエーハの製造方法において、規格口径より僅かに大なる口径のウエーハの両面に不純物拡散を行なった後、前記二分割を行ない、該二分割したウエーハ外周部を除去して前記不純物拡散層と非拡散層からなる規格口径のウエーハを形成することを特徴とする拡散ウエーハの製造方法。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/02 B
, H01L 21/223 A
