Pat

J-GLOBAL ID：200903069840817895

導電性パターン

Inventor： 川村 浩一 ,  加納 丈嘉
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 中島 淳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002152426
Publication number (International publication number)：2003345038
Application date： May. 27, 2002
Publication date： Dec. 03, 2003
Summary：

【要約】【課題】 製造適性に優れ、且つ、耐久性と導電安定性とに優れた導電性パターンを提供する。【解決手段】 親水性グラフト鎖が存在する表面を有する支持体上に、光活性基を有する疎水性化合物を含有する組成物を接触させ、画像様にエネルギーを付与して、該疎水性化合物を固定化して親/疎水性領域を形成し、該親水性領域に導電性材料を吸着させてなることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

親水性グラフト鎖が存在する表面を有する支持体上に、光活性基を有する疎水性化合物を含有する組成物を接触させ、画像様にエネルギーを付与して、該疎水性化合物を固定化して親/疎水性領域を形成し、該親水性領域に導電性材料を吸着させてなる導電性パターン。

IPC (6)：

G03F 7/38 512 ,  G03F 7/012 501 ,  G03F 7/021 501 ,  G03F 7/11 503 ,  H05K 3/10 ,  H05K 3/18

FI (6)：

G03F 7/38 512 ,  G03F 7/012 501 ,  G03F 7/021 501 ,  G03F 7/11 503 ,  H05K 3/10 C ,  H05K 3/18 C

F-Term (32)：

2H025AA13 ,  2H025AA19 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BA03 ,  2H025BA08 ,  2H025BD40 ,  2H025BD43 ,  2H025BH04 ,  2H025DA36 ,  2H025FA39 ,  2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096BA02 ,  2H096BA03 ,  2H096CA05 ,  2H096FA05 ,  5E343AA02 ,  5E343BB23 ,  5E343BB24 ,  5E343BB25 ,  5E343BB71 ,  5E343CC22 ,  5E343CC52 ,  5E343CC71 ,  5E343DD33 ,  5E343ER04 ,  5E343ER18 ,  5E343ER42 ,  5E343GG06 ,  5E343GG11