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J-GLOBAL ID：200903069861988118

頭髪洗浄料

Inventor： 大森 隆司 ,  鹿子木 宏之 ,  宮原 令二 ,  難波 富幸 ,  中根 俊彦
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Agent (1)： 岩橋 祐司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001356398
Publication number (International publication number)：2003160449
Application date： Nov. 21, 2001
Publication date： Jun. 03, 2003
Summary：

【要約】【課題】 本発明の目的は、使用性、保湿効果、保温効果に優れた頭髪洗浄料を提供することにある。【解決手段】 下記一般式化1で示されるアルキレンオキシド誘導体を含有することを特徴とする頭髪洗浄料。【化1】R1O-[(AO)m(EO)n]-R2(式中、AOは炭素数3〜4のオキシアルキレン基、EOはオキシエチレン基、mおよびnはそれぞれ炭素数3〜4のオキシアルキレン基、オキシエチレン基の平均付加モル数で、1≦m≦70、1≦n≦70であり、オキシアルキレン基とオキシエチレン基の合計に対するオキシエチレン基の割合が、20〜80質量%である。オキシアルキレン基とオキシエチレン基はブロック状に付加していてもランダム状に付加していてもよい。R1およびR2は同一もしくは異なっていてもよい炭素数1〜4の炭化水素基または水素原子であり、R1およびR2の炭化水素基数に対する水素原子数の割合が0.15以下である。)

Claim (excerpt)：

下記一般式化1で示されるアルキレンオキシド誘導体を含有することを特徴とする頭髪洗浄料。【化1】R1O-[(AO)m(EO)n]-R2(式中、AOは炭素数3〜4のオキシアルキレン基、EOはオキシエチレン基、mおよびnはそれぞれ炭素数3〜4のオキシアルキレン基、オキシエチレン基の平均付加モル数で、1≦m≦70、1≦n≦70であり、オキシアルキレン基とオキシエチレン基の合計に対するオキシエチレン基の割合が、20〜80質量%である。オキシアルキレン基とオキシエチレン基はブロック状に付加していてもランダム状に付加していてもよい。R1およびR2は同一もしくは異なっていてもよい炭素数1〜4の炭化水素基または水素原子であり、R1およびR2の炭化水素基数に対する水素原子数の割合が0.15以下である。)

F-Term (20)：

4C083AC122 ,  4C083AC152 ,  4C083AC292 ,  4C083AC312 ,  4C083AC392 ,  4C083AC532 ,  4C083AC642 ,  4C083AC712 ,  4C083AC782 ,  4C083AD041 ,  4C083AD042 ,  4C083AD051 ,  4C083AD052 ,  4C083AD132 ,  4C083BB01 ,  4C083CC38 ,  4C083DD01 ,  4C083DD27 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 皮膚外用剤用基剤及びそれを配合してなる化粧品
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-304030   Applicant：株式会社資生堂, 日本油脂株式会社