Pat

J-GLOBAL ID：200903069862842605

投影露光装置

Inventor： 松本 宏一
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992243664
Publication number (International publication number)：1994097040
Application date： Sep. 11, 1992
Publication date： Apr. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】 感光材がポジタイプかネガタイプかに応じて、投影光学系の球面収差の形状を最適化する。【構成】 露光光の波長をλ、投影光学系4の開口数をNAとして、ポジレジストを使用するとき、10割の開口に相当する球面収差量をΔS10として、7割の開口に相当する球面収差量をΔS7とするとき、0<ΔS10<+5λ/NA<SP></SP><SP>2</SP> 且つ-2.5λ/NA<SP>2</SP> <ΔS7<0の条件を満足させる。ネガレジストを使用するときには、その球面収差量の符号を反転する。

Claim (excerpt)：

マスクパターンを露光光で照明する照明光学系と、所定の開口数を持ち前記マスクパターンを感光材が塗布された基板上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記露光光の波長をλ、前記投影光学系の開口数をNAとして、前記感光材がポジタイプであるとき、前記マスクパターンを前記基板上へ投影する際の前記投影光学系の縦の球面収差に関して、10割の開口に相当する球面収差量をΔS<SB>10</SB>として、7割の開口に相当する球面収差量をΔS<SB>7</SB> とするとき、0<ΔS<SB>10</SB><+5λ/NA<SP>2</SP> (1)-2.5λ/NA<SP>2</SP> <ΔS<SB>7</SB> <0 (2)の条件を満足する事を特徴とする投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 311 N ,  H01L 21/30 301 G

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開平2-278811
  
• 特開平2-234411
  
• 特開平2-166719
  

Cited by examiner (1)

• 特開平2-278811