Pat

J-GLOBAL ID：200903069864356376

パターンマッチング法

Inventor： 尾嵜 秀三
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992094011
Publication number (International publication number)：1993288520
Application date： Apr. 14, 1992
Publication date： Nov. 02, 1993
Summary：

【要約】【目的】 高速度でパターンマッチングを行える方法を提供する。【構成】 マスター対象物1をカメラ3で観察して、高解像度のマスター画像パターンM1及び低解像度のマスター画像パターンM2を入手し、これらの画像データを画像メモリ12に登録する。また検査対象物1をカメラ3で観察して、低解像度の画像パターンA及び高解像度の画像パターンBを入手し、これらの画像データを画像メモリ11,12に入力する。そして低解像度のマスター画像パターンM1と低解像度の画像パターンAをマッチングさせて、検査対象物1が存在すると予想される領域Eを求めた後、この領域Eについて、高解像度のマスター画像パターンM2と高解像度の画像パターンBを正確にマッチングさせて、検査対象物1を検出する。

Claim (excerpt)：

(i)マスター対象物をカメラで観察して、低解像度のマスター画像パターン及び高解像度のマスター画像パターンを入手し、これらの画像データを画像メモリに登録するプロセスと、(ii)検査対象物をカメラで観察して、低解像度の画像パターン及び高解像度の画像パターンを入手し、これらの画像データを画像メモリに入力するプロセスと、(iii)上記(i)のプロセスで登録された低解像度のマスター画像パターンと上記(ii)のプロセスで入手された低解像度の画像パターンをマッチングさせて、上記検査対象物が存在すると予想される領域を求めるプロセスと、(iv)上記(iii)のプロセスで求められた領域内において、上記(i)のプロセスで登録された高解像度のマスター画像パターンと、上記(ii)のプロセスで入手された高解像度の画像パターンをマッチングさせて、上記検査対象物を精密に検出するプロセスと、から成ることを特徴とするパターンマッチング法。

IPC (3)：

G01B 11/00 ,  G06F 15/70 455 ,  H05K 13/08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭60-244803
  
• 特開平1-289696
  
• 特開昭63-054680
  
• 特開昭63-004379