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J-GLOBAL ID：200903069867327946
カラーフィルター基板およびその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
渡辺 徳廣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993069114
Publication number (International publication number)：1994258518
Application date： Mar. 05, 1993
Publication date： Sep. 16, 1994
Summary：
【要約】【目的】 遮光層のパターニング工程及びパターニング用露光マスクが不要になり、工程の簡略化及びコストダウンを可能にし、遮光層材料の選択巾を広げたカラーフィルター基板及びその製造方法を提供する。【構成】 透明基板の表面にカラーフィルターパターンを形成し、該カラーフィルターの各画素間および各画素の側面に遮光層を設けて遮光層パタ-ンを形成し、前記カラーフィルターパタ-ン及び遮光層パターン上に保護層を形成してなるカラーフィルター基板。透明基板の表面にカラーフィルターパターンを形成する工程、前記カラーフィルターパターン上に遮光層を形成する工程、研磨によりそのカラーフィルターパターン上の遮光層とカラーフィルターパターンの一部を除去する工程、研磨されたカラーフィルター及び遮光層パターン上に保護層を形成をする工程とからなるカラーフィルター基板の製造方法。
Claim (excerpt)：
透明基板の表面にカラーフィルターパターンを形成し、該カラーフィルターの各画素間および各画素の側面に遮光層を設けて遮光層パタ-ンを形成し、前記カラーフィルターパタ-ン及び遮光層パターン上に保護層を形成してなることを特徴とするカラーフィルター基板。
IPC (2)：
G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 505
