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J-GLOBAL ID：200903069879356631

放射性薬剤の制菌剤

Inventor： リチャード ジェー.フラナガン ,  ダニエル タータグリア
Applicant, Patent owner： メルク フロスト カナダ インコーポレーテッド
Agent (1)： 岡部 正夫 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992133069
Publication number (International publication number)：1993271102
Application date： Apr. 09, 1992
Publication date： Oct. 19, 1993
Summary：

【要約】【構成】 本願発明は下記成分:(a) 99mTcベース放射性薬剤、(b) 水溶性過テクネチウム酸塩還元剤、(c) ラジカルスカンベンジャー酸化防止剤、(d) 下記から選択された制菌剤: (i)塩化ベンザルコニウム(ii)塩化ベンゼトニウム、から成る放射性薬剤組成物に関する。【効果】 本願発明の放射性薬剤組成物は、細菌の繁殖と酸化の両者を最低限 度まで抑制でき、さらに造影のために使用されうる。

Claim (excerpt)：

下記成分を含有する放射性薬剤組成物(a)99mTcベース放射性薬剤、(b)水溶性過テクネチウム酸塩還元剤、(c)ラジカルスカンベンジャー酸化防止剤、(d)下記から選択された制菌剤:(i)塩化ベンザルコニウム(ii)塩化ベンゼトニウム。

IPC (6)：

A61K 49/02 ,  A61K 31/14 ADZ ,  A61K 31/375 ,  A61K 37/02 ,  C09K 15/04 ,  A61K 31:14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 特開昭54-002343
  
• 特開昭51-051526
  
• 特開昭60-064931
  
• 特開平2-085239
  
• 特開昭49-054517
  
• 特開昭62-104801