多孔質金属酸化物薄膜とそれをガラス基板の上に形成する方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：志賀富士弥 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1997509238
Publication number (International publication number)：1998509669
Application date： Aug. 14, 1995
Publication date： Sep. 22, 1998
Summary：

【要約】本発明はゾル・ゲル法によってガラス基板上に形成された多孔質金属酸化物膜に関するものである。前記膜は、(a)金属アルコキシド及び/又は金属アセチルアセトネートと、第一溶媒と、水と有機高分子とをいっしょに混合することによって、コーティング溶液を調製する工程と、(b)前記ガラス基板に前記コーティング溶液を塗布する工程と、(c)その上に形成されたゲル膜を100°C以下の第一温度で乾燥させる工程と、(d)前記ゲル膜に、酸溶液と、アルコールと水の混合溶液とのどちらか一方である第二溶媒を接触させる工程と、(e)前記ゲル膜を第二温度で加熱して、前記ゲル膜を前記多孔質金属酸化物膜に変化させる工程と、を含む方法によって作成される。前記多孔質金属酸化物膜の表面は、微細に凹凸を有し、さらに三次元的で微細な多孔質構造の細かい特徴的なパターンを有するものである。

Claim (excerpt)：

多孔質金属酸化物膜をガラス基板の上に形成する方法であって、 (a) 複数の金属アルコキシドと複数の金属アセチルアセトネートのみから成る群から選択される少なくとも一つの化合物と、第一溶媒と、水と有機高分子とをいっしょに混合することによって、前記有機高分子の存在下で前記少なくとも一つの化合物の加水分解及び縮重合を起こさせ、そしてそれによって単独の相を有するゾルの状態のコーティング溶液を調製する工程と、 (b) 前記ガラス基板に前記コーティング溶液を塗布することによって、前記第一溶媒の蒸発により前記単独の相が分離したものである無機相及び有機高分子相を有するゲル膜を、前記ガラス基板の上に形成する工程と、 (c) 前記第一溶媒を実質的に完全に蒸発させるために、前記ゲル膜を第一温度で乾燥させる工程と、 (d) 前記ゲル膜に、酸溶液と、アルコールと水の混合溶液とのどちらか一方である第二溶媒を接触させることによって、前記ゲル膜から前記有機高分子相を除去する工程と、 (e) 前記ゲル膜の中にまだ残っている前記有機高分子相を熱で分解するために、そして前記ゲル膜を前記多孔質金属酸化物膜に変化させるために、前記ゲル膜を第二温度で加熱する工程と、を含むことを特徴とする前記方法。

IPC (6)：

B32B 9/00 , B05D 7/00 , B05D 7/24 303 , B32B 5/18 , B32B 17/06 , C03C 17/25

FI (6)：

B32B 9/00 A , B05D 7/00 E , B05D 7/24 303 E , B32B 5/18 , B32B 17/06 , C03C 17/25 A

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