Pat
J-GLOBAL ID：200903069913710091
洗浄装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
志賀 富士弥 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994019727
Publication number (International publication number)：1995230977
Application date： Feb. 17, 1994
Publication date： Aug. 29, 1995
Summary：
【要約】【目的】 洗浄槽中に微粒子及び金属イオン等が蓄積することのない洗浄装置を提供する。【構成】 洗浄槽11を半透膜14で、第一洗浄部15と第二洗浄部16とに分け、ウェハWを洗浄する第一洗浄部15にフィルタ19を備えた第一循環手段12を設け、第二洗浄部16に吸着剤22を備えた第二循環手段13を設ける。これにより、微粒子はフィルタ19で捕捉され、金属イオン等は吸着剤22で捕捉され、洗浄槽11内に不純物が蓄積するのを防止することができる。
Claim (excerpt)：
洗浄液が貯えられる洗浄槽の内部に、第一洗浄部と第二洗浄部とが半透膜で仕切られて画成され、前記第一洗浄部に、当該第一洗浄部内の洗浄液を微粒子用フィルタを介して循環させる第一循環手段が設けられると共に、前記第二洗浄部に、当該第二洗浄部内の洗浄液を、分子及びイオンを吸着する吸着剤を介して循環させる第二循環手段が設けられてなり、前記第一洗浄部に被洗浄物が投入されることを特徴とする洗浄装置。
IPC (3)：
H01L 21/304 341
, B01D 15/00
, B01D 61/24
