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J-GLOBAL ID：200903069917815033

反射防止膜の形成方法

Inventor： 丸山 賢治 ,  小倉 敏明
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992252452
Publication number (International publication number)：1994102401
Application date： Sep. 22, 1992
Publication date： Apr. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】 本発明は光学部品などに使用される反射防止膜の形成方法に関するもので、フッ化マグネシウム(MgF2)膜が、従来のような基板加熱なしで高い密着性,耐久性の得、さらにクラック発生の防止効果を持つことを提供することを目的とする。【構成】 光学部品の表面にフッ化マグネシウム(MgF2)からなる反射防止膜を形成する構造を特ち、その形成方法が、基板となる光学部品は無加熱のまま蒸着部分に電子線照射を行いながらMgF2の蒸着膜を形成することを特徴とする反射防止膜の形成方法。

Claim (excerpt)：

光学部品基板の表面にフッ化マグネシウム(MgF2)からなる反射防止膜を形成するにあたり、前記光学部品基板の表面に電子線照射を行いつつMgF2の蒸着を行う反射防止膜の形成方法。