二次ターゲット装置及び蛍光X線分析装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：竹本松司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000120307
Publication number (International publication number)：2001305079
Application date： Apr. 21, 2000
Publication date： Oct. 31, 2001
Summary：

【要約】【課題】照射X線の切替えにおいてX線照射条件を一定に保持すると共に、試料に対して十分な二次X線を照射し、また、二次X線を試料の微小部分に照射する。【解決手段】 X線源と試料照射位置とを結ぶ直線を中心軸とし、少なくとも前記中心軸に対向するターゲット面に二次ターゲット材を設けた複数のターゲット部材を、前記中心軸からの距離を異ならせて径方向に配置して形成するターゲット本体と、中心軸上に配置し、X線源から試料照射位置に対する一次X線の照射を阻止するX線阻止部材とを備え、一次X線は二次ターゲットの隙間を通過せずに二次ターゲットのターゲット面のみを照射し、ターゲット面からの二次X線は二次ターゲットの隙間を通過して試料照射位置に到達する構成とする。

Claim (excerpt)：

X線源と試料照射位置とを結ぶ直線を中心軸とし、少なくとも前記中心軸に対向するターゲット面に二次ターゲット材を設けた複数のターゲット部材を、前記中心軸からの距離を異ならせて径方向に配置して形成するターゲット本体と、前記中心軸上に配置し、X線源から試料照射位置に対する一次X線の照射を阻止するX線阻止部材とを備え、前記ターゲット部材の中心軸方向の長さ及び隣接するターゲット部材間の径方向の配置間隔は、ターゲット面を一次X線源から見込む有効立体角と該ターゲット面側で隣接するターゲット部材との間を一次X線源から見込む有効立体角とが一致する第1の条件と、ターゲット面を試料照射位置から見込む有効立体角と該ターゲット面側で隣接するターゲット部材との間を試料照射位置から見込む有効立体角とが一致する第2の条件を満足することを特徴とする二次ターゲット装置。

IPC (3)：

G01N 23/223 , G21K 5/02 , G21K 5/08

FI (3)：

G01N 23/223 , G21K 5/02 X , G21K 5/08 X

F-Term (12)：

2G001AA01 , 2G001BA04 , 2G001BA05 , 2G001CA01 , 2G001EA06 , 2G001GA01 , 2G001GA13 , 2G001JA05 , 2G001JA20 , 2G001KA01 , 2G001SA02 , 2G001SA04

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