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J-GLOBAL ID：200903069976500186

プラズマ溶射装置

Inventor：
スースロフ、ニコライ

About スースロフ、ニコライ


Applicant, Patent owner：
スマトリ アクチボラゲット

About スマトリ アクチボラゲット


Agent (4)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  吉田 裕
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2004538103
Publication number (International publication number)：2005539143
Application date： Sep. 17, 2003
Publication date： Dec. 22, 2005
Summary：
本発明は、入口端部3及び出口端部4を有するプラズマ・チャネル2を形成する電極1と、粉末状材料を前記プラズマ・チャネル2に供給する手段5とを備える、前記粉末状材料を溶射するためのプラズマ溶射装置に関する。粉末供給手段5は、プラズマ・チャネル2のプラズマ流の方向で見て、その手段5の上流に位置する前記電極1の第1の区画6と、その手段5の下流に位置する前記電極1の第2の区画7との間に配置される。
Claim (excerpt)：
入口端部(3)及び出口端部(4)を有するプラズマ・チャネル(2)を形成する電極(1)と、粉末状材料を前記プラズマ・チャネル(2)に供給する手段(5)とを備える、前記粉末状材料を溶射するためのプラズマ溶射装置であって、 前記粉末供給手段(5)が、前記プラズマ・チャネル(2)のプラズマ流の方向で見て、前記手段(5)の上流に位置する前記電極(1)の第1の区画(6)と、前記手段(5)の下流に位置する前記電極(1)の第2の区画(5)との間に配置されることを特徴とする、プラズマ溶射装置。
IPC (4)：
C23C4/00 ,  C23C4/12 ,  H05H1/32 ,  H05H1/42
FI (4)：
C23C4/00 ,  C23C4/12 ,  H05H1/32 ,  H05H1/42
F-Term (4)：
4K031DA04 ,  4K031EA01 ,  4K031EA07 ,  4K031EA12
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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