Pat
J-GLOBAL ID:200903069984180948
粉体層積層体の製造方法及びその製造装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000237438
Publication number (International publication number):2002045777
Application date: Aug. 04, 2000
Publication date: Feb. 12, 2002
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、微粒子粉体を用いた場合でも、基体上に設けた粘着層表面に、粉体の均一な粉体層を、高い生産性で形成する方法を提供するものである。【解決手段】 基体上の粘着層表面に、粉体層を形成した粉体層積層体の製造方法であって、基体上に粘着層を設ける第1工程と、前記基体上の粘着層に、転写ロール表面に付着せしめた粉体、または磁気ブラシ上に付着せしめた粉体を接触・転写させて粉体層を形成させる第2工程とを具備する粉体層積層体の製造方法及びその製造装置。
Claim (excerpt):
基体上の粘着層表面に、粉体層を形成した粉体層積層体の製造方法であって、基体上に粘着層を設ける第1工程と、前記基体上の粘着層に、転写ロール表面に付着せしめた粉体、または磁気ブラシ上に付着せしめた粉体を接触・転写させて粉体層を形成させる第2工程とを具備することを特徴とする粉体層積層体の製造方法。
IPC (8):
B05C 19/00
, B05C 1/02 102
, B05C 9/06
, B05D 7/04
, B32B 5/16
, C23C 24/00
, G02B 3/00
, G02B 5/02
FI (8):
B05C 19/00
, B05C 1/02 102
, B05C 9/06
, B05D 7/04
, B32B 5/16
, C23C 24/00
, G02B 3/00 A
, G02B 5/02 C
F-Term (118):
2H042BA03
, 2H042BA15
, 2H042BA19
, 2H042BA20
, 4D075AC27
, 4D075AC35
, 4D075AC41
, 4D075AC48
, 4D075AC72
, 4D075AC80
, 4D075AC84
, 4D075AE03
, 4D075BB05Y
, 4D075BB12Y
, 4D075BB24Z
, 4D075BB65Z
, 4D075CA02
, 4D075CA13
, 4D075CA15
, 4D075CA18
, 4D075CA22
, 4D075CA23
, 4D075CA32
, 4D075CA38
, 4D075CB02
, 4D075CB04
, 4D075DA04
, 4D075DA06
, 4D075DB01
, 4D075DB13
, 4D075DB14
, 4D075DB18
, 4D075DB20
, 4D075DB21
, 4D075DB33
, 4D075DB36
, 4D075DB40
, 4D075DB48
, 4D075DB53
, 4D075DB55
, 4D075DC24
, 4D075EA02
, 4D075EA07
, 4D075EA35
, 4D075EB01
, 4D075EB12
, 4D075EB13
, 4D075EB14
, 4D075EB17
, 4D075EB18
, 4D075EB19
, 4D075EB20
, 4D075EB22
, 4D075EB32
, 4D075EB33
, 4D075EB35
, 4D075EB38
, 4D075EB43
, 4D075EB45
, 4F040AA22
, 4F040AB15
, 4F040AC01
, 4F040BA29
, 4F040CA02
, 4F040CA13
, 4F040CB05
, 4F040CB24
, 4F040CB36
, 4F040DB11
, 4F040DB18
, 4F042AA22
, 4F042AB06
, 4F042DC00
, 4F042EC00
, 4F042ED02
, 4F100AJ06
, 4F100AK25G
, 4F100AK52
, 4F100AK52G
, 4F100AK53G
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100DD07B
, 4F100DE01B
, 4F100EH46
, 4F100EH461
, 4F100EJ08
, 4F100EJ081
, 4F100EJ502
, 4F100EJ82
, 4F100EJ822
, 4F100EJ85
, 4F100EJ852
, 4F100EJ86
, 4F100EJ861
, 4F100EJ862
, 4F100GB41
, 4F100JL13G
, 4K044AA01
, 4K044AA12
, 4K044AA13
, 4K044AA16
, 4K044AB02
, 4K044BA01
, 4K044BA02
, 4K044BA06
, 4K044BA08
, 4K044BA10
, 4K044BA12
, 4K044BA13
, 4K044BA14
, 4K044BA18
, 4K044BA19
, 4K044BA21
, 4K044BB11
, 4K044BB14
, 4K044CA22
, 4K044CA27
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
連続ウエブへグリット粒子を施す方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-307965
Applicant:ネトロン・リミテッド
-
トナー、現像装置及び現像方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-315019
Applicant:キヤノン株式会社
-
特開昭59-104663
Return to Previous Page