Pat
J-GLOBAL ID：200903069992747485
パターン作成方法、及びパターン作成システム
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991210892
Publication number (International publication number)：1993066550
Application date： Aug. 22, 1991
Publication date： Mar. 19, 1993
Summary：
【要約】【目的】 設計データに基づいてレチクル上に形成されたパターンが、特殊な照明方法で投影露光されたとき、露光されたパターンが設計値通りに転写されないといった不都合を解決する。【構成】 設計上のパターンのうち、解像限界に近い線幅をもつパターンの先端部分を、周囲に存在する他のパターンとの関連性に応じて微小量だけ太らせる。
Claim (excerpt)：
所定のエネルギー線に対して遮へい性のパターン要素の複数、もしくは前記エネルギー線に対して透過性のパターン要素の複数を、各パターン要素の形状と配置とが規定された設計データに基づいて、マスクとなる原版上に生成するためのパターン作成方法において、前記複数のパターン要素のうち対象となるパターン要素の外形エッジが周囲に隣接した他のパターン要素から一定間隔以上離れているか否かを、前記外形エッジの全周に渡って検定し、前記一定間隔以上に離れているエッジ部分を孤立的エッジ部分として特定するとともに、前記対象となるパターン要素が所定の幅以下のパターン終端部を有するか否かを検定し、前記パターン終端部の幅方向を規定するエッジ部分を終端近傍エッジ部分として特定し;前記対象となるパターン要素の着目する外形エッジ部分が前記孤立的エッジ部分であるときは、該着目外形エッジ部分を他の外形エッジ部分に対して相対的に外側に修正するための量を第1微小量とし、前記着目外形エッジ部分が前記終端近傍エッジ部分であるときは、前記着目外形エッジ部分を他の外形エッジ部分に対して相対的に外側に修正するための量を第2微小量とし;前記対象となるパターン要素の設計データ上の外形エッジを、前記第1微小量と第2微小量のいずれか一方、もしくは前記第1微小量と第2微小量の合成で決まる量だけ修正することを特徴とするパターン作成方法。
IPC (3)：
G03F 1/08
, G06F 15/60 370
, H01L 21/027
