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J-GLOBAL ID：200903070063632817
露光方法及び露光装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高月 亨
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992285044
Publication number (International publication number)：1994120102
Application date： Sep. 30, 1992
Publication date： Apr. 28, 1994
Summary：
【要約】【目的】 露光条件を定めるための補正に要する時間を短縮でき、かつシステム的にも低コストにすることが可能な露光方法及び露光装置を提供する。【構成】 複数のパターンを有するパターン群の中のパターンの適正露光量を決めて該パターンの露光を行う際、該パターンの評価点の蓄積エネルギの平均を照射エネルギとして式を立て、他のパターンから該パターンに影響する照射量を定数として、前記式に入れて、該パターンの適正照射量を求め、次いで他のパターンについて同様の手法で適正照射量を求め、この操作を反復することにより、各パターンの適正露光量を求めて露光を行う。
Claim (excerpt)：
複数のパターンを有するパターン群の中のパターンの適正露光量を決めて該パターンの露光を行う露光方法において、該パターンの評価点の蓄積エネルギの平均を照射エネルギとして式を立て、他のパターンから該パターンに影響する照射量を定数として、前記式に入れて、該パターンの適正照射量を求め、次いで他のパターンについて同様の手法で適正照射量を求め、この操作を反復することにより、各パターンの適正露光量を求めて露光を行う構成としたことを特徴とする露光方法。
IPC (5)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03B 27/72
, G03F 7/20 501
, G03F 7/20 521
