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J-GLOBAL ID：200903070068803245

反応性ケイ素基含有ノルボルネン系ポリマーの製造方法

Inventor： 片岡 英明 ,  杉村 正彦 ,  光田 康裕
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992046279
Publication number (International publication number)：1993214079
Application date： Jan. 31, 1992
Publication date： Aug. 24, 1993
Summary：

【要約】【目的】 低誘電率かつ十分な耐熱性を有し、金属や無機材料等との接着性が良好なノルボルネン系ポリマーの製造方法を提供すること。【構成】 炭素-炭素二重結合を有するノルボルネン系ポリマーと、ケイ素原子に直結した水素原子と反応性基を有するケイ素化合物とをヒドロシリル化反応せしめ、さらに所望により反応生成物を水素添加することを特徴とする反応性ケイ素基含有ノルボルネン系ポリマーの製造方法。

Claim (excerpt)：

炭素-炭素二重結合を有するノルボルネン系ポリマーと、ケイ素原子に直結した水素原子と反応性基を有するケイ素化合物とをヒドロシリル化反応せしめ、さらに所望により反応生成物を水素添加することを特徴とする反応性ケイ素基含有ノルボルネン系ポリマーの製造方法。

IPC (4)：

C08G 61/08 NLH ,  C08F 8/04 MGB ,  C08F 8/42 MHU ,  C08F232/08 MNV