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J-GLOBAL ID：200903070077126515
位置合わせ方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992047493
Publication number (International publication number)：1993217848
Application date： Feb. 03, 1992
Publication date： Aug. 27, 1993
Summary：
【要約】【目的】 スループットをあまり低下させることなく、非線形誤差の大きなショットのアライメント精度を向上する。【構成】 1ロットの先頭の1枚のウェハについて全ショットの計測をし(ステップ104)、予め選択した複数ショットの計測結果から変換のパラメータを求める(ステップ105)。そのパラメータに基づいて計算した配列座標と計測された座標位置との偏差が大きい特定ショットを記憶し(ステップ106)、それ以降のウェハにおいてその特定ショットについては例えば個別の計測結果に基づいてアライメントを行なう。
Claim (excerpt)：
N(Nは2以上の整数)枚の基板毎に、該基板に設計上の配列座標に従って2次元的に形成された複数のショット領域の各々を、前記基板の移動位置を規定する静止座標系内の所定の基準位置に対して位置合わせするにあたって、前記複数のショット領域のうち、予め選択された少なくとも3つのショット領域の前記静止座標系における座標位置を計測し、該計測された複数の座標位置を統計演算することによって、前記基板上の複数のショット領域の各々の前記静止座標系上における座標位置を算出し、該算出された複数のショット領域の各々の座標位置に従って前記基板の移動位置を制御することによって、前記複数のショット領域の各々を前記基準位置に対して順次位置合わせする方法において、前記統計演算によって算出された座標位置に従ってk(kは2以上でN以下の整数)枚目の基板上の複数のショット領域の各々を前記基準位置に対して位置合わせするのに先立って、(k-1)枚目までの基板のうち少なくとも1枚については、該基板上のほぼ全ショット領域の座標位置を計測するとともに、該計測されたほぼ全てのショット領域の座標位置と、前記統計演算によって算出されたほぼ全てのショット領域の計算上の座標位置とを比較して、前記計測上の座標位置と前記計算上の座標位置との偏差が所定の許容値を超えているショット領域を予め特定ショット領域として指定しておくこととし、前記k枚目の基板において、前記特定ショット領域以外のショット領域の各々については前記計算上の座標位置に従って前記基準位置に位置合わせするとともに、前記特定ショット領域については前記計算上の座標位置と異なる座標位置に従って前記基準位置に位置合わせする事を特徴とする位置合わせ方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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