膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度化膜

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：白井重隆
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999177695
Publication number (International publication number)：2001002993
Application date： Jun. 24, 1999
Publication date： Jan. 09, 2001
Summary：

【要約】【課題】 450°C以下での硬化可能であり、得られる膜が適当な均一な厚さを有し、誘電率特性、吸水性特性に優れ、CMP耐性に優れ、かつ空隙サイズが小さく、半導体素子などにおける層間絶縁膜として有用な、膜形成用組成物を提供する。【解決手段】 (A)R2 R3 Si(OR1 )2 、R2 Si(OR1 )3 および/またはSi(OR1 )4 、ならびにR2 s ( R1 O)3-sSiRSi(OR1)3-t R2 t (R1 〜R3 は同一でも異なっていてもよく、それぞれ1価の有機基、Rは2価の有機基を示し、sおよびtは0〜1の整数である)で表される化合物、これらの加水分解物および/またはこれらの縮合物、(B)(メタ)アクリレート系重合体、ならびに(C)アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒およびエステル系溶媒の群から選ばれた少なくとも1種の溶媒、を含有する膜形成用組成物。

Claim (excerpt)：

(A)(A-1)下記一般式(1)で表される化合物、および/または(A-2)下記一般式(2)で表される化合物、および/または(A-3)下記一般式(3)で表される化合物、ならびに、(A-4)下記一般式(4)で表される化合物、その加水分解物および/またはその縮合物、R2 R3 Si(OR1 )2 ・・・・・(1)R2 Si(OR1 )3 ・・・・・(2)Si(OR1 )4 ・・・・・(3)(R1 〜R3 は同一でも異なっていてもよく、それぞれ1価の有機基、Rは2価の有機基を示し、sおよびtは0〜1の整数である。)(B)アルコキシシリル基を有するラジカル重合性モノマーを0.1〜10モル%含むモノマーを重合してなる(メタ)アクリレート系重合体、ならびに(C)アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒およびエステル系溶媒の群から選ばれた少なくとも1種の溶媒を含有することを特徴とする膜形成用組成物。

IPC (4)：

C09D183/04 , C08L 33/02 , C08L 83/04 , C09D133/02

FI (4)：

C09D183/04 , C08L 33/02 , C08L 83/04 , C09D133/02

F-Term (37)：

4J002BG042 , 4J002BG052 , 4J002BG062 , 4J002BG072 , 4J002CD192 , 4J002CP051 , 4J002EC036 , 4J002EC046 , 4J002EE036 , 4J002EE046 , 4J002EH006 , 4J002EH036 , 4J002EH146 , 4J002EH156 , 4J002EL066 , 4J002EL086 , 4J002EP016 , 4J002EU026 , 4J002EU076 , 4J002EU236 , 4J002FD310 , 4J002GH00 , 4J002GP00 , 4J002GQ01 , 4J002GQ05 , 4J038CG142 , 4J038CH032 , 4J038CH042 , 4J038CL002 , 4J038DL021 , 4J038DL031 , 4J038GA15 , 4J038JC32 , 4J038KA06 , 4J038NA21 , 4J038PA19 , 4J038PB09

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