Pat

J-GLOBAL ID：200903070093443059

ホトレジスト組成物及びパターン形成方法

Inventor： 梅村 光雄 ,  神原 浩 ,  犬飼 鉄也 ,  西川 和宏 ,  根津 幸子 ,  渡辺 聡
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992355066
Publication number (International publication number)：1994186739
Application date： Dec. 17, 1992
Publication date： Jul. 08, 1994
Summary：

【要約】【構成】 主としてアルカリ可溶性樹脂と感光剤とからなるホトレジスト組成物において、感光剤が下記一般式(1)で表わされる1,2-ナフトキノン-2-ジアジドスルホン酸エステル又は感光剤が下記一般式(2)で表わされる1,2-ナフトキノン-2-ジアジドスルホン酸エステルを主成分とすることを特徴とするホトレジスト組成物。【化1】(但し、式中Rはそれぞれ1,2-ナフトキノン-2-ジアジドスルホニル基又は水素原子であり、Rの少なくとも一つは1,2-ナフトキノン-2-ジアジドスルホニル基である。また、aは0〜3、bは0〜3、cは0〜2、dは0〜2であり、bとdは同時に0とはならない。)【効果】 本発明によれば、i線露光法を採用してハーフミクロン以下の解像度を効果的に達成することができ、特にCEL法と組み合わせたパターン形成により極めて高解像度のレジストパターンを得ることができる。

Claim (excerpt)：

主としてアルカリ可溶性樹脂と感光剤とからなるホトレジスト組成物において、感光剤が下記一般式(1)で表わされる1,2-ナフトキノン-2-ジアジドスルホン酸エステルを主成分とすることを特徴とするホトレジスト組成物。【化1】(但し、式中Rはそれぞれ1,2-ナフトキノン-2-ジアジドスルホニル基又は水素原子であり、Rの少なくとも一つは1,2-ナフトキノン-2-ジアジドスルホニル基である。)

IPC (4)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/095 501 ,  G03F 7/26 512 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 301 R ,  H01L 21/30 361 L