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J-GLOBAL ID：200903070110322538

レジスト組成物

Inventor： 尾家 正行 ,  田中 秀行
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993312525
Publication number (International publication number)：1995077803
Application date： Nov. 18, 1993
Publication date： Mar. 20, 1995
Summary：

【要約】【目的】 感度、解像度、耐エッチング性、及び保存安定性などのレジスト特性に優れたレジスト材料を提供すること。【構成】 分子鎖中に、下記一般式(I)及び一般式(II)で示される構造単位を有する共重合体、及び活性光線の照射により酸を生成可能な化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。【化1】式中、R1及びR2は、互いに同一または異なり、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5の置換アルキル基、ハロゲン原子、またはシアノ基であり、R3は、線状アセタール基、環状アセタール基、カーボネート基、または-OR4である。【化2】式中、R5は、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5の置換アルキル基、ハロゲン原子、またはシアノ基であり、R6は、炭素数5〜16の環状アルケニル基、または炭素数5〜16の置換環状アルケニル基である。

Claim (excerpt)：

分子鎖中に、下記一般式(I)及び一般式(II)で示される構造単位を有する共重合体(A)、及び活性光線の照射により酸を生成可能な化合物(B)を含有することを特徴とするレジスト組成物。【化1】〔式中、R1及びR2は、互いに同一または異なり、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5の置換アルキル基、ハロゲン原子、またはシアノ基であり、R3は、線状アセタール基、環状アセタール基、カーボネート基、または-OR4である。ただし、R4は、【化2】または【化3】である。(ただし、これらの式中、R7、R8、R9、R10、R11及びR12は、それぞれ独立に、鎖状アルキル基、置換鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、置換分岐状アルキル基、環状アルキル基、置換環状アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、または置換アラルキル基を表し、これらのうち、R10及びR11は、水素原子であってもよい。)〕【化4】〔式中、R5は、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5の置換アルキル基、ハロゲン原子、またはシアノ基であり、R6は、炭素数5〜16の環状アルケニル基、または炭素数5〜16の置換環状アルケニル基である。〕

IPC (6)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027