露光装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993286517
Publication number (International publication number)：1995142348
Application date： Nov. 16, 1993
Publication date： Jun. 02, 1995
Summary：

【要約】【目的】ウェハの搬送時にウェハの裏面に付着した異物の影響でウェハホルダーに載置されたウェハの平面度が悪化するのを防ぐ。【構成】ウェハをウェハカセットから搬送するウェハ搬送手段と、ウェハ搬送手段からホルダーに受け渡しのために使用する支持手段とウェハホルダーのそれぞれの接触面が異なるように設定してウェハの搬送時にウェハの裏面に異物が付着しても露光時にウェハの平面度が保たれるようにした。

Claim (excerpt)：

感光基板を裏面で保持する事前保持手段と、該事前保持手段から前記感光基板を受け取り、該感光基板の裏面の一部分を吸着保持して移送する搬送手段と、該搬送手段で搬送された前記感光基板の裏面のほぼ全体を吸着保持するための基板ホルダーと、前記搬送手段と該基板ホルダーとの間で前記感光基板を受け渡しする際、該基板ホルダーの上方空間に前記搬送手段が進入し得るように、該基板ホルダーの上方空間で一時的に前記感光基板の裏面を支持する支持手段と、該支持手段と前記基板ホルダーとを相対的に上下動させる駆動手段とを備え、前記基板ホルダーに吸着保持された基板を露光する露光装置において、前記基板ホルダーは、前記感光基板の外形形状とほぼ相似の形状でかつ所定の幅で突出形成されたほぼ環状の第1接触面と、所定幅の非接触領域を挟んで前記第1接触面と並行して所定の幅で突出形成されたほぼ環状の第2接触面とを有し;前記搬送手段は、前記感光基板の裏面の一部分と接触する領域が前記基板ホルダーの非接触領域の幅よりも小さく形成された第3接触面を有し;さらに前記基板ホルダーと前記搬送手段との間で前記感光基板を受け渡しする際、前記搬送手段の第3接触面が前記基板ホルダーの非接触領域の上方空間に位置する状態まで前記搬送手段の相対運動を制御する制御手段を設け;前記支持手段が前記感光基板の裏面を支持する部分と、前記搬送手段の第3接触面と、前記基板ホルダーの第1接触面と、前記第2接触面とを前記感光基板の裏面内において互いに異ならせたことを特徴とする露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , B65G 49/07 , H01L 21/68

FI (2)：

H01L 21/30 503 C , H01L 21/30 514 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

特開平2-191317
ウエハ固定用チャック
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-330162 Applicant：三菱電機株式会社

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