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J-GLOBAL ID：200903070115234564
半導体装置製造用の石英製装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
岡本 啓三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993060342
Publication number (International publication number)：1994069145
Application date： Mar. 19, 1993
Publication date： Mar. 11, 1994
Summary：
【要約】【目的】本発明は、半導体装置を製造する際に用いられる炉心管、ウェハボート、スティック等の石英製装置に関し、変形し難く、かつ、外部の金属汚染を十分に抑制することを目的とする。【構成】半導体ウェハWの周囲の雰囲気に触れる第一の石英層2と、前記第一の石英層2に含有される量よりも少ない水酸基を含み、前記雰囲気に接しない部分に形成される第二の石英層3とを有すことを含む。
Claim (excerpt)：
半導体ウェハ(W)の周囲の雰囲気に触れる第一の石英層(2、6、9、24)と、前記第一の石英層(2、6、9、24)に含有される量よりも少ない水酸基を含み、前記雰囲気に接しない部分に形成される第二の石英層(3、5、8、22)とを有すことを特徴とする半導体装置製造用の石英製装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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