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J-GLOBAL ID：200903070121504042
静電吸着装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993232800
Publication number (International publication number)：1995086386
Application date： Sep. 20, 1993
Publication date： Mar. 31, 1995
Summary：
【要約】【目的】プラズマによりエッチング処理されるウエハの温度分布の均一化を図る。【構成】プラズマ11によりエッチング処理されるウエハ1を静電吸着するウエハ吸着部22と超音波加工により絶縁膜6に形成した深さ約100μmのくぼみであるウエハ非吸着部23を静電吸着電極2表面に交互に設ける。【効果】ウエハ内の温度分布の均一化を図ることができる。
Claim (excerpt)：
プラズマにより処理されるウエハを絶縁膜との間に発生させた静電吸着力により支持する静電吸着装置において、前記ウエハと絶縁膜間との熱通過率に分布を与えるように構成したことを特徴とする静電吸着装置。
IPC (2)：
H01L 21/68
, H01L 21/3065
