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J-GLOBAL ID：200903070154334517
マスクとそれを用いた投影露光方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991177816
Publication number (International publication number)：1993002261
Application date： Jun. 24, 1991
Publication date： Jan. 08, 1993
Summary：
【要約】【目的】 開口部フィルタを用いることなく、コントラスト,解像性を向上させた投影露光方法およびそれに用いるマスクを実現する。【構成】 回折光の各次数の光強度がマスクパタンのフーリエ展開したときの各成分の大きさに比例することに着目し、マスク4の遮光部2を半透明にし、その透過率をパタン性状に基いて設定するとともに、その遮光部分の透過光がマスク透明部3の通過光と180°の位相差をもつようにする。これにより、回折光の0次成分を相対的に1/2となるようにし、1次回折光とのバランスを、開口部フィルタを用いることなく達成できる。さらに、高コントラストと高解像性とを投影レンズ系を変更することなく、両立させることができる。
Claim (excerpt)：
マスク基板と、該マスク基板の一方の面に所定パタンを有して形成された遮光部を構成するマスク材からなり、前記マスクの遮光部は半透明であって、その透過率がパタン性状に基いて設定され、かつその遮光部分の通過光がマスクの透明部の通過光と半波長の位相差をもつようにしたことを特徴とするマスク。
IPC (3)：
G03F 1/08
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
