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J-GLOBAL ID：200903070166138233

皮膜形成組成物

Inventor： 峯村 正彦 ,  内田 修
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 岩見谷 周志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994298996
Publication number (International publication number)：1995179819
Application date： Nov. 08, 1994
Publication date： Jul. 18, 1995
Summary：

【要約】【構成】 一般式(1):【化1】〔ここで、Rは同一でも異なってもよく、炭素原子数1〜6の1価の炭化水素基、ヒドロキシル基又は水素原子を示し、R’はアミノ基含有有機基であり、aは0〜3の整数であり、mは1以上の整数であり、nは5以上の整数であり、但し、m+nは 2,000以上の整数である。〕で表されるアミン変性高重合ポリシロキサンが有機溶剤に溶解してなる皮膜形成組成物。【効果】 従来の皮膜形成組成物に比べ、撥水性、耐水性、感触、耐久性に優れる滑らかな軟膜が得られる。

Claim (excerpt)：

一般式(1):【化1】〔ここで、Rは同一でも異なってもよく、炭素原子数1〜6の1価の炭化水素基、ヒドロキシル基又は水素原子を示し、R’はアミノ基含有有機基であり、aは0〜3の整数であり、mは1以上の整数であり、nは5以上の整数であり、但し、m+nは 2,000以上の整数である。〕で表されるアミン変性高重合ポリシロキサンが有機溶剤に溶解してなる皮膜形成組成物。

IPC (5)：

C09D183/08 PMS ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/48 ,  C08L 83/08 LRR